Utilisation des pompes SCHMITT dans la fabrication de semi-conducteurs
Contexte de l’application
Les usines de semi-conducteurs véhiculent de l’eau ultrapure, des acides, des bases, des fluides de nettoyage et des eaux usées de procédé. Les exigences vont des robustes circuits d’utilités aux procédés très sensibles proches de la plaquette.
L’application et le niveau de pureté doivent être clairement définis avant la sélection de la pompe. La résistance chimique seule ne suffit pas pour les procédés critiques pour la plaquette.
Défi
Dans les procédés sensibles, la génération de particules, les ions métalliques, les extractibles et les lixiviables, l’état de surface ainsi que les concepts de montage, de nettoyage et de qualification sont déterminants. Les fluides CMP imposent d’autres exigences que l’UPW ou les produits chimiques humides transparents.
Solution
NHM et MPN conviennent aux procédés auxiliaires qualifiés de haute pureté, d’eau déminéralisée, d’eau ultrapure et de chimie humide. La série T ne comporte ni palier en contact avec le fluide ni garniture mécanique et évite ainsi l’introduction de particules d’usure des paliers dans le fluide pompé.
Pour les tâches de transfert chimique et les utilités de plus grande capacité, NEOCHEM CORE avec revêtement PFA est disponible. Les procédés UPW, lithographie, etching, CMP ou distribution de produits chimiques critiques pour la plaquette sont qualifiés exclusivement pour chaque projet.
Avantages des pompes SCHMITT dans la fabrication de semi-conducteurs
PP, PVDF et PFA pour des médias appropriés d'attaque, de nettoyage et de processus.
Haute étanchéité sans passage dynamique de l'arbre.
L’eau déminéralisée, l’eau ultrapure et les fluides sensibles sont qualifiés selon les exigences de pureté spécifiques.
Conception cantilever sans palier intermédiaire en contact avec le fluide ni garniture mécanique.
Des versions compactes MPN/NHM aux modèles NEOCHEM CORE revêtus de PFA.
Technologie éprouvée d’arbre glissant sur les pompes horizontales à entraînement magnétique correspondantes.
Pompes pour la fabrication de semi-conducteurs (sélection)
- Hermétiquement étanche, entraînement magnétique, PP ou PVDF
- Jusqu’à 95 °C, débit jusqu’à 42 m³/h, hauteur manométrique jusqu’à 27 m
- Jusqu’à 76 % de rendement : meilleur de sa catégorie en efficacité énergétique
- Technologie des axes de glissement : sans usure, sans maintenance et durable
- Hermétiquement étanche grâce à un entraînement magnétique sans contact
- Géométrie spéciale de la chemise d’entrefer pour hautes pressions et températures élevées
MPN
Pompes centrifuges non auto-amorçantes
en PVDF ou PP avec entraînement magnétique
- Hermétiquement étanche, accouplement magnétique, PP ou PVDF
- Jusqu’à 95 °C, débit jusqu’à 35 m³/h, hauteur manométrique jusqu’à 32 m
- Pompe largement éprouvée, en service à plus de 10 000 exemplaires
- Insensible au manque de lubrification et à la marche à sec partielle grâce à des paliers lisses largement dimensionnés – pas d’axe emmanché
- Pratiquement sans maintenance en fonctionnement normal grâce à des paliers lisses généreusement dimensionnés
