Einsatz von Schmitt-Pumpen in der Chipherstellung

Hintergrund der Aufgabenstellung

Halbleiterfabriken bewegen Reinstwasser, Säuren, Laugen, Reinigungsmedien und Prozessabwässer. Die Anforderungen reichen von robusten Facility-Kreisläufen bis zu hochsensiblen, wafernahen Prozessen.

Anwendung und Reinheitsniveau müssen vor der Pumpenauswahl eindeutig abgegrenzt werden. Chemische Beständigkeit allein genügt bei waferkritischen Prozessen nicht.

Herausforderung

In sensiblen Prozessen sind Partikelgenerierung, Metallionen, Extractables und Leachables, Oberflächenzustand sowie Montage-, Reinigungs- und Qualifikationskonzept relevant. CMP-Medien stellen andere Anforderungen als UPW oder klare Nasschemikalien.

Lösung

NHM und MPN eignen sich für qualifizierte High-Purity-, VE-Wasser-, Reinstwasser- und nasschemische Nebenprozesse. Die T arbeitet ohne medienberührte Lager oder Gleitringdichtung und vermeidet dadurch Lagerabrieb im Fördermedium.

Für größere chemische Transfer- und Facility-Aufgaben steht NEOCHEM CORE mit PFA-Auskleidung zur Verfügung. Waferkritische UPW-, Lithografie-, Etch-, CMP- oder Chemical-Delivery-Prozesse werden ausschließlich projektspezifisch qualifiziert.

Vorteile von Schmitt-Pumpen in der Chipherstellung

Chemikalienbeständige Werkstoffe Pfeil nach unten
Chemikalienbeständige Werkstoffe Pfeil nach unten

PP, PVDF und PFA für geeignete Ätz-, Reinigungs- und Prozessmedien.

Dichtungsfreie Magnetkupplung Pfeil nach unten
Dichtungsfreie Magnetkupplung Pfeil nach unten

Hohe Dichtheit ohne dynamischen Wellendurchtritt.

High-Purity-Ausführungen Pfeil nach unten
High-Purity-Ausführungen Pfeil nach unten

VE-Wasser, Reinstwasser und sensible Medien werden anhand der konkreten Reinheitsanforderungen qualifiziert.

Kein Lagerabrieb bei T Pfeil nach unten
Kein Lagerabrieb bei T Pfeil nach unten

Cantilever-Konstruktion ohne medienberührte Zwischenlager oder Gleitringdichtung.

Skalierbares Leistungsfeld Pfeil nach unten
Skalierbares Leistungsfeld Pfeil nach unten

Von kompakten MPN-/NHM-Ausführungen bis zur PFA-ausgekleideten NEOCHEM CORE.

Verschleißfrei und wartungsfrei Pfeil nach unten
Verschleißfrei und wartungsfrei Pfeil nach unten

Bewährte Gleitachsen-Technologie bei den entsprechenden horizontalen Magnetpumpen.

Pumpen für Chipherstellung und Halbleiterfertigung (Auswahl)

NHM
NHM

Normalansaugende Kreiselpumpen
aus PVDF oder PP

  • Hermetisch dicht, Magnetkupplung, PP oder PVDF
  • Bis 95 °C, Fördermenge bis 42 m³/h, Förderhöhe bis 27 m
  • Bis zu 76 % Wirkungsgrad: Best-in-Class bei Energieeffizienz
  • Gleitachsen-Technologie: Verschleißfrei, wartungsfrei und langlebig
  • Hermetisch dicht durch berührungslosen Magnetantrieb
  • Besondere Spalttopfgeometrie für hohe Drücke und Temperatur
MPN
MPN

Normalansaugende Kreiselpumpen
aus PVDF oder PP mit Magnetkupplung

  • Hermetisch dicht, Magnetkupplung, PP oder PVDF
  • Bis 95 °C, Fördermenge bis 35 m³/h, Förderhöhe bis 32 m
  • Extrem bewährte Pumpe, 10.000-fach im Einsatz
  • Unempfindlich gegen Mangelschmierung und partiellen Trockenlauf durch groß dimensionierte Gleitlager – keine Steckachse
  • Im Normalbetrieb praktisch wartungsfrei durch großzügig dimensionierte Gleitlager
T
T

Dichtungslose Eintauchpumpen
aus PP oder PVDF, trockenlaufsicher

  • Absolut trockenlaufsicher
  • Kein Abrieb in das Fördermedium, damit gut geeignet für High-Purity-Anwendungen
  • Wartungsfreier Betrieb, da keine Verschleißteile wie Gleitlager oder Gleitringdichtungen
  • Feststoffe bis zu 3 mm Korngröße und 10 Vol. % können mitgefördert werden
NEOChem-Core
NEOCHEM CORE

Heavy-Duty-Chemie-Normpumpen
PFA ausgekleidet, mit Magnetkupplung

  • Hermetisch dicht & absolut leckagefrei – dichtungsfreie Magnetkupplung
  • Die PFA-Auskleidung kombiniert mit einer robusten Armor-Außenschale schützt gegen Korrosion und Kontamination
  • Back-Pull-Out-Wartungsaufbau – schneller Service und Austausch von Hydraulik-/Magnetpaket ohne Demontage der Rohrleitung
  • Geeignet für hohe Prozesstemperaturen bis +150°C