SCHMITT泵在芯片制造中的应用
应用背景
半导体工厂输送超纯水、酸、碱、清洗介质和工艺废水。应用范围从坚固耐用的厂务回路一直延伸到高度敏感的晶圆邻近工艺。
在选择泵之前，必须明确界定具体应用和纯度等级。对于晶圆关键工艺，仅具备化学耐受性并不足够。
挑战
在敏感工艺中，颗粒生成、金属离子、可萃取物与可浸出物、表面状态，以及装配、清洗和认证方案均需考虑。CMP介质的要求不同于超纯水或透明湿化学品。
解决方案
NHM和MPN适用于经过验证的高纯度、去离子水、超纯水和湿化学辅助工艺。T系列无需与介质接触的轴承或机械密封，因此可避免输送介质中的轴承磨损颗粒。
对于较大的化学品输送和厂务任务，可选用PFA衬里的NEOCHEM CORE。晶圆关键的UPW、光刻、蚀刻、CMP或化学品输送工艺仅按具体项目进行认证。
SCHMITT泵在芯片制造中的优势
芯片和半导体制造用泵（选型）
