Çip üretiminde SCHMITT pompalarının kullanımı

Uygulamanın arka planı

Yarı iletken fabrikalarında ultra saf su, asitler, alkaliler, temizleme akışkanları ve proses atıksuları pompalanır. Gereksinimler, sağlam tesis yardımcı devrelerinden son derece hassas, wafer’a yakın proseslere kadar uzanır.

Pompa seçilmeden önce uygulama ve saflık seviyesi açıkça sınırlandırılmalıdır. Wafer açısından kritik proseslerde yalnızca kimyasal dayanım yeterli değildir.

Zorluk

Hassas proseslerde partikül oluşumu, metal iyonları, extractables ve leachables, yüzey durumu ile montaj, temizleme ve kalifikasyon konsepti önemlidir. CMP akışkanları, UPW veya berrak ıslak proses kimyasallarından farklı gereksinimler getirir.

Çözüm

NHM ve MPN; kalifiye edilmiş high-purity, deiyonize su, ultra saf su ve ıslak kimyasal yardımcı prosesler için uygundur. T serisi akışkanla temas eden yatak veya mekanik salmastra olmadan çalışır ve böylece pompalanan akışkanda yatak aşınma parçacıklarını önler.

Daha büyük kimyasal transfer ve tesis yardımcı görevleri için PFA kaplı NEOCHEM CORE sunulur. Wafer açısından kritik UPW, litografi, etch, CMP veya kimyasal dağıtım prosesleri yalnızca proje özelinde kalifiye edilir.

Çip üretiminde SCHMITT pompalarının avantajları

Kimyasal olarak dirençli malzemeler Aşağı ok
Kimyasal olarak dirençli malzemeler Aşağı ok

PP, PVDF ve PFA, uygun aşındırıcı, temizleme ve proses sıvıları için.

Salmastrasız manyetik kaplin Aşağı ok
Salmastrasız manyetik kaplin Aşağı ok

Dinamik mil geçişi olmadan yüksek sızdırmazlık.

High-purity versiyonlar Aşağı ok
High-purity versiyonlar Aşağı ok

Deiyonize su, ultra saf su ve hassas akışkanlar somut saflık gereksinimlerine göre kalifiye edilir.

T serisinde yatak aşınma parçacığı yok Aşağı ok
T serisinde yatak aşınma parçacığı yok Aşağı ok

Akışkanla temas eden ara yatak veya mekanik salmastra içermeyen cantilever konstrüksiyon.

Ölçeklenebilir performans aralığı Aşağı ok
Ölçeklenebilir performans aralığı Aşağı ok

Kompakt MPN/NHM versiyonlarından PFA kaplı NEOCHEM CORE’a kadar.

Aşınmasız ve bakım gerektirmez Aşağı ok
Aşınmasız ve bakım gerektirmez Aşağı ok

İlgili yatay manyetik pompalarda kendini kanıtlamış kayar mil teknolojisi.

Çip ve yarı iletken üretimi için pompalar (seçim)

NHM
NHM

Normal emişli santrifüj pompalar
PVDF veya PP'den

  • Hermetik sızdırmaz, manyetik kaplin, PP veya PVDF
  • 95 °C’ye kadar, 42 m³/h’ye kadar debi, 27 m’ye kadar basma yüksekliği
  • %76’ya varan verimlilik: enerji verimliliğinde sınıfının en iyisi
  • Kayar eksen teknolojisi: aşınmasız, bakım gerektirmez ve uzun ömürlü
  • Temassız manyetik tahrik sayesinde hermetik sızdırmaz
  • Yüksek basınçlar ve sıcaklık için özel ayırma kovanı geometrisi
MPN
MPN

Normal emişli santrifüj pompalar
PVDF veya PP malzemeden, manyetik kaplinli

  • Hermetik sızdırmaz, manyetik kaplinli, PP veya PVDF
  • 95 °C’ye kadar, debi 35 m³/h’ye kadar, basma yüksekliği 32 m’ye kadar
  • Son derece kendini kanıtlamış pompa, 10.000’den fazla uygulamada kullanımda
  • Büyük boyutlandırılmış kaymalı yataklar sayesinde yetersiz yağlamaya ve kısmi kuru çalışmaya karşı duyarsız – geçme mil yok
  • Cömert boyutlandırılmış kaymalı yataklar sayesinde normal işletimde pratik olarak bakım gerektirmez