Aplicación de bombas SCHMITT en la fabricación de semiconductores
Contexto de la aplicación
Las fábricas de semiconductores manejan agua ultrapura, ácidos, álcalis, fluidos de limpieza y aguas residuales de proceso. Los requisitos abarcan desde robustos circuitos auxiliares de fábrica hasta procesos altamente sensibles próximos a la oblea.
La aplicación y el nivel de pureza deben definirse claramente antes de seleccionar la bomba. La resistencia química por sí sola no es suficiente en procesos críticos para la oblea.
Desafío
En los procesos sensibles son relevantes la generación de partículas, los iones metálicos, las sustancias extraíbles y lixiviables, el estado de las superficies y los conceptos de montaje, limpieza y cualificación. Los fluidos CMP plantean requisitos diferentes a los del agua ultrapura o los productos químicos húmedos transparentes.
Solución
NHM y MPN son adecuadas para procesos auxiliares cualificados de alta pureza, agua desionizada, agua ultrapura y química húmeda. La serie T no tiene cojinetes en contacto con el fluido ni cierre mecánico y evita así la entrada de partículas de desgaste de los cojinetes en el fluido bombeado.
Para tareas de transferencia química y servicios de fábrica de mayor capacidad se dispone de NEOCHEM CORE con revestimiento de PFA. Los procesos de UPW, litografía, etching, CMP o suministro de productos químicos críticos para la oblea se cualifican exclusivamente para cada proyecto.
Ventajas de las bombas SCHMITT en la fabricación de semiconductores
PP, PVDF y PFA para medios de grabado, limpieza y procesos adecuados.
Alta estanqueidad sin paso dinámico del eje.
El agua desionizada, el agua ultrapura y los fluidos sensibles se cualifican según los requisitos específicos de pureza.
Diseño cantilever sin cojinetes intermedios en contacto con el fluido ni cierre mecánico.
De versiones compactas MPN/NHM hasta el NEOCHEM CORE recubierto de PFA.
Acreditada tecnología de eje deslizante en las bombas horizontales de acoplamiento magnético correspondientes.
Bombas para la fabricación de semiconductores (selección)
Herméticamente estanca, acoplamiento magnético, PP o PVDF
Hasta 95 °C, caudal de hasta 42 m³/h, altura de impulsión de hasta 27 m
Hasta un 76 % de rendimiento: eficiencia energética best-in-class
Tecnología de cojinetes lisos: sin desgaste, sin mantenimiento y duradera
Herméticamente estanca mediante accionamiento magnético sin contacto
Geometría especial del carcasa de contención para presiones y temperaturas elevadas
Herméticamente estanca, con acoplamiento magnético, en PP o PVDF
Hasta 95 °C, caudal de hasta 35 m³/h y altura de impulsión de hasta 32 m
Bomba de eficacia ampliamente probada, instalada miles de veces
Resistente a una lubricación insuficiente y al funcionamiento en seco parcial gracias a sus cojinetes lisos sobredimensionados, sin eje insertado
Prácticamente sin mantenimiento en condiciones normales de servicio gracias a sus cojinetes lisos sobredimensionados
