Einsatz von Schmitt-Kreiselpumpen in der Chipherstellung
Hintergrund der Aufgabenstellung
In der Chipherstellung werden unterschiedlichste Flüssigkeiten wie hochreines Wasser (UPW), Ätzlösungen, Reinigungschemikalien und Prozessbäder bewegt. Diese Medien müssen kontrolliert, sauber und zuverlässig durch die Anlagen gefördert werden, häufig in Reinraumumgebung und mit strengsten Anforderungen an Reinheit und Dichtheit.
Die Chipherstellung unterscheidet klar zwischen waferkritischen und facilitynahen Prozessen. Je nach Einsatzbereich sind hermetisch dichte magnetgekuppelte Pumpen, robuste Pumpen mit Gleitringdichtung, hohe chemische Beständigkeit, geringe Partikelfreisetzung und zuverlässiger 24/7-Betrieb entscheidend.
Herausforderung
Die Chipproduktion stellt an Pumpen besonders hohe Anforderungen: viele Medien sind stark chemisch aggressiv, schon kleinste Partikel oder metallischer Abrieb können Wafer beschädigen, absolut dichte Systeme sind Pflicht und Temperatur- sowie Druckstabilität müssen über den gesamten Prozess gewährleistet sein. Da viele Linien im 24/7-Betrieb laufen, sind Ausfälle teuer und müssen vermieden werden.
Lösung
Schmitt-Kreiselpumpen bieten für waferkritische und facilitynahe Bereiche passende Lösungen. Magnetgekuppelte Pumpen eignen sich für sensible Kernprozesse wie UPW-Kreisläufe, Ätz- und Reinigungsmedien, Spül- und Chemikalienprozesse sowie nasschemische Schritte im Litho-, Etch- oder CMP-Umfeld. Pumpen mit Gleitringdichtung kommen in Facility-, Abwasser-, Neutralisations-, Temperier- und Cooling-Water-Systemen zum Einsatz. Hochwertige Werkstoffe, verschleißarme Lagerkonzepte und glatte medienberührte Oberflächen unterstützen Reinheit, Zuverlässigkeit und wirtschaftlichen Dauerbetrieb.
Vorteile von Schmitt-Pumpen in der Chipherstellung
PVDF, PP und Edelstahl decken aggressive Ätz- und Reinigungsmedien ebenso ab wie Prozesswasser.
Magnetgekuppelte Modelle sind ideal für hochreine Prozesse ohne Toleranz für Leckagen oder Partikel.
Magnetkupplung für wafernahe Prozesse, Gleitringdichtung für Facility-, Abwasser- oder Hochtemperaturbereiche.
Verschleißarme Lagertechnik und glatte Innenflächen halten die Medienreinheit hoch.
Kunststoffpumpen bis ca. 95 °C und Edelstahl bis deutlich über 100 °C decken unterschiedliche Prozessschritte ab.
Robuste Konstruktion reduziert Stillstände und steigert die Anlagenverfügbarkeit im Dauerbetrieb.
Sollte ein Ersatzteil erforderlich sein, kann die Versorgung besonders schnell erfolgen.
Hohe Wirkungsgrade senken Betriebskosten im 24/7-Fertigungsumfeld.
Für UPW und kritische Chemikalien stehen besonders reine Kunststoffausführungen zur Verfügung.
Material- und Beständigkeitsnachweise unterstützen auditierte und qualifizierte Fertigungsumgebungen.
Pumpen für Chipherstellung und Halbleiterfertigung (Auswahl)
Herméticamente cerrada, acoplamiento magnético, PP o PVDF
Hasta 95 °C, caudal de hasta 42 m³/h, altura de impulsión de hasta 27 m
Hasta un 76 % de rendimiento: eficiencia energética best-in-class
Tecnología de eje deslizante: sin desgaste, sin mantenimiento y duradera
Herméticamente cerrada mediante accionamiento magnético sin contacto
Geometría especial del vaso separador para presiones y temperaturas elevadas
MPN
Bombas centrífugas de aspiración normal
de PVDF o PP con acoplamiento magnético
Herméticamente cerrada, acoplamiento magnético, PP o PVDF
Hasta 95 °C, caudal de hasta 35 m³/h, altura de impulsión de hasta 32 m
Bomba extremadamente probada, instalada miles de veces
Insensible a la lubricación insuficiente y a la marcha en seco parcial gracias a cojinetes deslizantes sobredimensionados, sin eje insertado
Prácticamente sin mantenimiento en funcionamiento normal gracias a cojinetes deslizantes de generosas dimensiones
Schmitt-Pumpen
Horizontale Kreiselpumpen aus Kunststoff
Horizontale Kreiselpumpen aus Edelstahl
